1.  
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                      HK-200酸性鍍純錫啞光添加劑



                       HK-200酸性鍍純錫啞光添加劑

                         采用單一添加劑,鍍液配制簡單,易于
                      操作,維護容易,具有較寬的電鍍密度范
                      圍,同一配方可適于掛鍍、滾鍍及線、帶
                      材連續鍍,不含氟硼酸,廢水處理容易,
                      腐蝕性低,利于環保。
                      包裝規格:20kg。


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                      商品描述



                       HK-200酸性鍍純錫啞光添加劑

                         采用單一添加劑,鍍液配制簡單,易于
                      操作,維護容易,具有較寬的電鍍密度范
                      圍,同一配方可適于掛鍍、滾鍍及線、帶
                      材連續鍍,不含氟硼酸,廢水處理容易,
                      腐蝕性低,利于環保。
                      包裝規格:20kg。



                      一、產品特點:

                      1、現場操作簡單:采用單一添加劑,鍍液配制簡單,易于操作,維護容易;

                       2、鍍液電鍍效率高:具有較寬的電鍍密度范圍,較快的沉積速度, 極佳的深鍍能力;

                      3、鍍液適用性強:同一配方可適于掛鍍、滾鍍及線、帶材連續鍍;

                      4、鍍層穩定性優異:經標準老化試驗或長期存放后,仍能保持良好的焊接性能;

                      5、鍍液環保:不含氟硼酸,廢水處理容易,腐蝕性低,利于環保。

                      二、工藝順序:

                      工件表面為鎳或銅層/紫銅件→化學去油→水洗→電解清洗→水洗→水洗→5-10%硫酸活化→水洗→流動水洗→預浸(5-10% MSA 甲基磺酸溶液,去離子水配制→電鍍錫鉛→回收水洗→流動水洗→中和(50-100g/L 磷酸三鈉溶液 60-90℃) →水洗→水洗→熱水洗→干燥(烘干或吹干)

                      三、操作工藝:

                      原料及工藝條件

                      9:1(每升)

                      6:4(每升)

                      甲基磺酸錫(300g/L)

                      69g

                      46g

                      甲基磺酸鉛(450g/L)

                      5g

                      22g

                      甲基磺酸(70%)

                      150g

                      150g

                      HK-200添加劑含量

                      20-40ml/L       30ml/L

                      溫度

                      15-30℃          25℃

                      電流密度

                      掛鍍 2(1-4A/dm2)  滾鍍 1(0.5-2A/dm2)

                      攪拌

                      連續過濾或陰極移動

                      S 陽:S 陰(注:陽極錫鉛比與鍍液一致,即9:1或6:4)

                      1:1-4:1

                      陽極

                      可溶解錫

                       

                      沉積速度

                      電流密度為1A/dm2 每20分鐘可鍍10 

                      電流密度為2A/dm2 每10分鐘可鍍10  

                       

                       

                       


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